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本发明公开了一种压印光刻，具体公开了一种使用具有无机释放层和可压印介质层的衬底形成压印模具的方法。所述方法包括：使用主压印模具将图案压印到可压印介质中，使可压印介质固化，和蚀刻可压印介质和无机释放层以在无机释放层中形成图案。...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

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