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本发明公开了一种自屏蔽辐射源的高能电子束辐照加工系统（２００），其包括辐照设备和土建建筑，所述辐照设备包括加速器（１）、安装在所述加速器（１）的四周及顶部的屏蔽体（２２）、加速器功率源与辅助系统（５）、功率输送装置（４）、扫描盒（３）、电子...该专利属于同方威视技术股份有限公司;清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过同方威视技术股份有限公司;清华大学授权不得商用。
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