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一种多引线通孔的形成方法,包括提供一基材,至少具有一第一表面和一孔洞,孔洞具有孔壁;形成一第一导电层于基材的整个表面和孔壁上;形成一光阻层于第一导电层的整个表面上,且选择性地图案化光阻层,以在第一导电层上定义出多个侧向分离区域;以图案化光阻...该专利属于日月光半导体制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过日月光半导体制造股份有限公司授权不得商用。
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一种多引线通孔的形成方法,包括提供一基材,至少具有一第一表面和一孔洞,孔洞具有孔壁;形成一第一导电层于基材的整个表面和孔壁上;形成一光阻层于第一导电层的整个表面上,且选择性地图案化光阻层,以在第一导电层上定义出多个侧向分离区域;以图案化光阻...