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一种除垢剂制造技术
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文档序号:5958251
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本发明涉及水垢及其它顽垢清除清洁类领域。本发明公开的一种除垢剂其主要活性组分及其质量份数为:非离子表面活性剂1-5份,阴离子表面活性剂0.5-10份,两性表面活性剂0.5-5份,甲基磺酸2-50份,羟基乙叉二膦酸1-5份,缓蚀剂0.3-1....
该专利属于北京洛娃日化有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京洛娃日化有限公司授权不得商用。
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