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本发明涉及一种真空处理系统，其中工艺气体被引入处理腔并且通过真空处理系统排气路径而排出。通过在受沉积物影响的装置的上游引入活性气体而减少或清除由排气气体形成的沉积物。通过测定受影响装置上下游排气气体成分的气相浓度而对所引入活性气体的量进行控...
该专利属于爱德华兹真空股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过爱德华兹真空股份有限公司授权不得商用。

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