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集成低泄漏二极管制造技术
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文档序号:5475770
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本发明涉及一种适合于在功率集成电路中操作的集成低泄漏二极管,其具有类似于横向功率MOSFET的结构,但其中电流在与常规功率MOSFET相反的方向上流动穿过所述二极管。阳极连接到栅极及可比MOSFET源极区,所述阳极具有连接到通道区的两种导电...
该专利属于飞兆半导体公司所有,仅供学习研究参考,未经过飞兆半导体公司授权不得商用。
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