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本实用新型提出一种半导体设备的器件清洗装置，包括：外部清洗槽；内部清洗槽，设置于所述外部清洗槽内部；去离子水入水管，其开口位于所述内部清洗槽上方；污水排水管，其开口连接于所述外部清洗槽底部；其中，所述内部清洗槽内具有上下运动的第一承载部和第...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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