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4’-硫-2’-去氧核苷作为抗正痘病毒剂的用途制造技术
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文档序号:5034515
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本发明涉及由下式代表的化合物:其中每一R个别地为H或脂肪族酰基或芳香族酰基;X选自由以下组成的群组:氢、氟、氯、溴、碘、烷氧基、烷基、卤烷基、烯基、卤烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、氰基、芳基和硝基;其医药上可接受的盐、其前药和其...
该专利属于南方研究所所有,仅供学习研究参考,未经过南方研究所授权不得商用。
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