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本实用新型提供一种掩模盒，用于存放光刻工艺中使用的掩模。这种掩模盒的主要结构包括盒身、盒盖以及位于所述盒身以及盒盖内侧边沿的支持装置，支持装置具有外凸的弧形支持面，采用经弹性化处理的材料制成。使用这种掩模盒可以避免掩模受到损伤的风险。...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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