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本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法、图案形成方法、及半导体装置的制造方法。本发明的课题为提供一种可形成会表现优异的加工耐性及优异的气体穿透性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组成物。其解决手段为一种抗蚀...
该专利属于信越化学工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。

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