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用于在光刻设备中使用的表膜和用于形成该表膜的方法技术
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下载用于在光刻设备中使用的表膜和用于形成该表膜的方法的技术资料
文档序号:45032082
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一种用于在光刻设备中使用的表膜,所述表膜包括:隔膜,所述隔膜具有第一部分和第二部分;以及保护部分,所述保护部分在所述隔膜的至少一侧上位于所述第二部分处。一种用于形成用于在光刻设备中使用的表膜的方法,所述方法包括:提供隔膜,所述隔膜具有第一部...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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