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本公开提供了一种利用不同照明模式获得高分辨图形的方法，涉及光刻技术领域，方法包括：在基底上形成依次层叠的负性感光膜层、正性感光膜层和金属增强层；采用第一照明模式，基于掩模版对正性感光膜层进行曝光，采用第二照明模式，基于掩模版对负性感光膜层进...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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