下载基板处理装置和方法、半导体器件的制造方法及记录介质的技术资料

文档序号:44898184

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本发明提供一种能够抑制气体的状态的变化的技术。具有:处理基板的处理室;向所述处理室供给气体且具有缓冲空间的缓冲室;经由所述缓冲室向所述处理室供给气体的气体供给部;加热所述缓冲空间的加热部;能够测定所述缓冲空间的压力的压力测定部;以及控制部,...
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