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本发明涉及一种用于晶圆蚀刻的药液循环系统及蚀刻设备，该药液循环系统包括混合配酸模组、制程循环模组和药液回收模组。混合配酸模组包括细长结构的原液槽以及与原液槽连接的配酸槽，原液槽进口处设置有压力氮气入口。制程循环模组包括与配酸槽出口连接的制程...
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