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本发明公开了一种高蚀刻均匀性的缓冲氧化物蚀刻液。该蚀刻液主要成分为氢氟酸、氟化铵、缓蚀剂以及超纯水。本发明的蚀刻液用于氧化硅薄膜的蚀刻，并对氮化钨层腐蚀作用小，蚀刻完成后氮化钨层表面均一性好。缓蚀剂有较强的配位能力和吸附性能，缓蚀剂与氮化钨...
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