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本发明公开了一种193nm光刻胶树脂的制备方法包括以下步骤：树脂合成得到合成树脂溶液，合成时合成的单体包括以下摩尔百分比的原料：99.9~99.99%抗刻蚀的甲基丙烯酸酯单体、0.01~0.1%带环氧的甲基丙烯酸酯单体；去除合成树脂溶液中的...该专利属于江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种193nm光刻胶树脂的制备方法包括以下步骤：树脂合成得到合成树脂溶液，合成时合成的单体包括以下摩尔百分比的原料：99.9~99.99%抗刻蚀的甲基丙烯酸酯单体、0.01~0.1%带环氧的甲基丙烯酸酯单体；去除合成树脂溶液中的...