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本发明公开了一种熔断器用高强度高导电性银带及其制备方法,包括纯银和强化剂,强化剂质量为纯银质量的0.005‑0.01%,强化剂为氧化锆、氧化钙、硼化钙和硼化锆中的一种或几种混合物,经过熔炼浇注后强化剂细小弥散分布在银晶界处,从而阻碍晶粒位错...该专利属于重庆川仪自动化股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过重庆川仪自动化股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种熔断器用高强度高导电性银带及其制备方法,包括纯银和强化剂,强化剂质量为纯银质量的0.005‑0.01%,强化剂为氧化锆、氧化钙、硼化钙和硼化锆中的一种或几种混合物,经过熔炼浇注后强化剂细小弥散分布在银晶界处,从而阻碍晶粒位错...