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用于光学类聚酯薄膜UV型增穿透降反射材料及制备方法技术
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下载用于光学类聚酯薄膜UV型增穿透降反射材料及制备方法的技术资料
文档序号:44236414
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本发明公开一种用于光学类聚酯薄膜UV型增穿透降反射材料及制备方法,UV型增穿透降反射材料由以下组分组成:UV型硅氟改性丙烯酸树脂20‑40重量份、UV型环氧改性丙烯酸树脂20‑35重量份、纳米级空心氧化硅球10‑70重量份、自由基光引发剂2...
该专利属于东莞市光志光电有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过东莞市光志光电有限公司授权不得商用。
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