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一种半导体处理设备包括：光产生器，其被配置为输出具有极紫外(EUV)波段的EUV光；掩模台，其被配置为放置反射从光产生器输出的EUV光的掩模；光接收光学单元，其包括通过反射从掩模反射的EUV光产生输出光的多个镜，所述多个镜中的至少一个包括镜...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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