下载CVD单晶金刚石生长温度场稳定性提升方法及其稳定装置的技术资料

文档序号:44074815

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本发明涉及一种CVD单晶金刚石生长温度场稳定性提升方法及其稳定装置,在钼台的凹陷槽内开出贯穿孔,将凹陷槽内的单晶金刚石衬底与钼台紧密贴合后,在贯穿孔内注入镍基膏状钎料,真空加热焊接,通过焊接固化后的钎料将衬底牵拉与钼台的凹陷槽底面紧密接触,...
该专利属于郑州大学所有,仅供学习研究参考,未经过郑州大学授权不得商用。

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