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一种波片调节和测量方法及测量装置制造方法及图纸
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下载一种波片调节和测量方法及测量装置的技术资料
文档序号:44055117
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本发明提供一种波片调节方法,包括:使入射光照射角锥棱镜,获得基准反射光;使基准反射光经第二汇聚透镜汇聚至光斑探测器,得到基准光斑;使入射光照射置于波片放置台上的波片,得到实测反射光;使实测反射光经第二汇聚透镜汇聚至光斑探测器,得到实测光斑;...
该专利属于武汉颐光科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉颐光科技有限公司授权不得商用。
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