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本发明公开了一种可改善方片磨抛面型的游离式游星轮，涉及磨抛技术领域，可解决现有石英晶体方片在磨抛过程中加工误差大的问题。本发明实施例的一种可改善方片磨抛面型的游离式游星轮，包括圆形的外齿圈和内齿圈，以及磨盘主体，还包括若干结构相同并且用于放...
该专利属于四川科尔威光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川科尔威光电科技有限公司授权不得商用。

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