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本申请涉及光刻材料技术领域，具体公开了一种含氟聚合物及其制备方法及用该聚合物制得的ArF浸没式光刻胶。一种含氟聚合物，以mol%计，包括5‑15mol%的A单体、55‑80mol%的B单体以及15‑30mol%的C单体，所述A单体为侧链为内...该专利属于瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司授权不得商用。
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本申请涉及光刻材料技术领域，具体公开了一种含氟聚合物及其制备方法及用该聚合物制得的ArF浸没式光刻胶。一种含氟聚合物，以mol%计，包括5‑15mol%的A单体、55‑80mol%的B单体以及15‑30mol%的C单体，所述A单体为侧链为内...