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一种EB或EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：含有羟基的聚合物(A)、在阳离子部含有羟基的光产酸剂(B)、能够与羟基反应的交联剂(C)和溶剂(D)。...
该专利属于日产化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日产化学株式会社授权不得商用。

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