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本发明涉及手性识别技术领域，尤其涉及一种表面增强拉曼散射基底及其制备方法与手性识别方法。所述表面增强拉曼散射基底包括衬底和设置于所述衬底表面的手性分子插层超晶格材料层，手性分子插层超晶格材料包括层状过渡金属硫化物和嵌于过渡金属硫化物层间的手...
该专利属于松山湖材料实验室所有，仅供学习研究参考，未经过松山湖材料实验室授权不得商用。

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