温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种羟基化多孔石墨烯‑PEEK复合薄膜及其制备方法，涉及高分子材料技术领域，解决了现有技术电磁屏蔽材料中导电填料结构单一、在复合材料中分散性差的问题。本发明采用溶剂热法和热还原法将石墨还原为羟基化多孔石墨烯，采用具有强还原性的硼氢化钠制备羟...
该专利属于吉林省聚锋高新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过吉林省聚锋高新材料有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。