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本申请提供一种掩膜版及掩膜版的制备方法。所述掩膜版包括：玻璃基板、掩膜层及半透膜层。掩膜层位于在玻璃基板上，掩膜层在玻璃基板上形成掩膜图案，其中，掩膜图案包括由掩膜本体围合形成的掩膜开口以及位于掩膜开口内的掩膜单元。半透膜层位于玻璃基板设置...
该专利属于成都奕成集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都奕成集成电路有限公司授权不得商用。

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