温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明磁控溅射设备中的等离子体发生装置，包括腔体，腔体内从下至上依次设置有载台、靶材、电磁铁；电磁铁置于固定板上，固定板上开设有多圈通孔，每圈通孔包括均匀设置的多个通孔，通孔内设置有电磁铁；一个和/或多个电磁铁输入相同的电流，本发明中等离子...
该专利属于无锡尚积半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡尚积半导体科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。