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式(Ⅰ)化合物及其可药用盐: *** (Ⅰ), 其中: R↑[1]为氢、OH、NH↓[2]、低级烷氧基-羰基、芳基-低级烷氧基-羰基、芳氧基-羰基、低级烷基-羰基、芳基-羰基或被卤素取代的低级烷氧基-羰基; R↑[...
该专利属于弗·哈夫曼-拉罗切有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过弗·哈夫曼-拉罗切有限公司授权不得商用。
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