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一种加热组件，用于半导体处理设备，半导体处理设备包括反应室，反应室内设有圆盘状基座及反应腔，基座包括用于承载晶圆的第一表面，第一表面面向反应腔，反应室包括平行于第一表面的第一方向、及位于第一方向两端的进气端及出气端，其中，加热组件包括对应于...
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