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本公开提供了一种真空系统及化学气相沉积设备，属于半导体制备设备领域。该真空系统，应用于化学气相沉积设备，真空系统包括缓冲罐、多个真空泵、多个腔体连接管路和多个蝶阀；多个真空泵分别与缓冲罐相连；多个腔体连接管路的第一端分别与缓冲罐相连，多个腔...
该专利属于京东方华灿光电（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方华灿光电（苏州）有限公司授权不得商用。

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