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一种复合衬底超薄功能层结构及其制备方法，制备方法如下：在衬底A上依次外延生长与其晶格基本匹配的缓冲层和超薄功能层结构；将衬底A上的超薄功能层进行图形化，分割成位于衬底A表面相互独立的功能层薄膜；分别对目标衬底B以及衬底A上的超薄功能层表面进...
该专利属于中国电子科技集团公司第五十五研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第五十五研究所授权不得商用。

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