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本申请涉及CMP化学机械研磨抛光技术领域，尤其是涉及一种高精密修整工具及其制造方法，高精密修整工具包括圆盘和钻石片，所述钻石片设置有多个，各所述钻石片均设置在所述圆盘上且沿所述圆盘的轴线间隔分布，所述钻石片上成型有凸起，所述凸起呈塔状，所述...
该专利属于嘉兴沃尔德金刚石工具有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过嘉兴沃尔德金刚石工具有限公司授权不得商用。

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