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一种蚀刻方法及接触孔制作方法。所述蚀刻方法包括：对基底进行反应离子蚀刻，对蚀刻后形成的沟槽进行真空抽气。所述蚀刻方法能够避免由于残留物堆积而影响最终形成的半导体器件的质量。...
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