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本发明公开了一种硅基薄膜电阻用陶瓷金属靶材的制备方法，涉及溅射靶材加工领域，其技术方案要点是：步骤一：将TiB<subgt;2</subgt;粉、CrB<subgt;2</subgt;粉、Si粉、Cr粉、SiC粉、C...
该专利属于基迈克材料科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过基迈克材料科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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