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一种硅基薄膜电阻用陶瓷金属靶材的制备方法技术
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文档序号:42751167
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本发明公开了一种硅基薄膜电阻用陶瓷金属靶材的制备方法,涉及溅射靶材加工领域,其技术方案要点是:步骤一:将TiB<subgt;2</subgt;粉、CrB<subgt;2</subgt;粉、Si粉、Cr粉、SiC粉、C...
该专利属于基迈克材料科技(苏州)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过基迈克材料科技(苏州)有限公司授权不得商用。
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