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薄膜晶体管及其制造方法技术
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文档序号:42634917
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本发明公开一种薄膜晶体管及其制造方法,其中薄膜晶体管包括第一源极/漏极、隔离结构、第二源极/漏极、半导体结构、栅介电层、突起结构以及栅极。第一源极/漏极位于基板之上。隔离结构位于第一源极/漏极上,且具有重叠于第一源极/漏极的第一通孔。第二源...
该专利属于友达光电股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。
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