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本发明公开了一种Zn<supgt;2+</supgt;@PEI/PDA修饰合成ZIF‑8膜的方法及在氢气分离中的应用，属于膜分离技术领域。该合成方法为利用Zn<supgt;2+</supgt;@PDA/PEI为界面层...
该专利属于武夷学院所有，仅供学习研究参考，未经过武夷学院授权不得商用。

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