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本申请公开了一种传片调度、腔室清洁方法及半导体工艺设备。其中，该传片调度方法包括：晶圆在当前腔室完成工艺，且确定下一步工艺需到达的目标腔室空闲后，发送针对所述目标腔室的延迟清洁指令，所述延迟清洁指令用于指示在所述晶圆从所述当前腔室至所述目标...
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