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光刻胶图案的修补方法技术
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文档序号:4256027
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本发明公开了一种光刻胶图案的修补方法,至少包括:形成一材料层于一衬底上;形成一光刻胶图案于该材料层的表面的一第一部分上,其中该光刻胶图案至少包括一缺陷区暴露出该材料层的该表面的一第二部分;以及进行一修补步骤,以形成一光刻胶层设置在该光刻胶图...
该专利属于东捷科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过东捷科技股份有限公司授权不得商用。
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