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本发明提供抑制基片间的处理结果的不均的基片处理装置和基片处理方法。包括基片处理部、第一路径、第二路径、第一开闭阀、第二开闭阀、温度检测部和控制部。基片处理部将第一处理液与第二处理液混合而生成混合液，将混合液供给到基片，由此对基片进行处理。第...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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