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感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法技术
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文档序号:42393714
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本发明提供一种在形成极微细的图案时的LWR性能及分辨率优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含含有阴离子及具有特...
该专利属于富士胶片株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士胶片株式会社授权不得商用。
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