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本发明属于半导体加工技术领域，公开了扩散炉装置，扩散炉装置包括炉体和内管体，所述炉体具有空腔，所述内管体设置于所述空腔内，沿所述炉体的轴向，所述内管体的至少一端设置有调节组件，所述调节组件能够沿第一方向和第二方向调节所述内管体相对于所述炉体...
该专利属于浙江晶盛光子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江晶盛光子科技有限公司授权不得商用。

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