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本发明公开了一种基板处理装置、方法及计算机可读介质，基板处理装置包括清洗槽、第一基板托架和控制器，清洗槽具有化学液；第一基板托架用于承载基板；以及控制器用于至少控制第一基板托架将基板放入或托出清洗槽，并且将基板在清洗槽的化学液中的清洗时间分...
该专利属于盛美半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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