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本发明提供一种透射电子显微镜样品的制备方法，先沿基底的第二表面对基底进行刻蚀，以形成贯穿基底的开口，并利用剩余的基底构成支撑结构，支撑结构围绕开口设置；然后，沿第一保护层的表面及开口的内壁向靠近第二表面的方向，对待测样品进行减薄处理，直至暴...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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