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本申请涉及色母粒制备技术领域，具体涉及一种高性能抗静电色母粒的制备方法，该方法包括：将氮化硅晶须置于真空环境下进行焙烧处理，待焙烧完成的氮化硅晶须冷却后分散于溶液中进行等离子处理，在真空干燥获得硅烷偶联剂改性的氮化硅晶须；将原料按重量份加入...
该专利属于湖南省升阳新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南省升阳新材料有限公司授权不得商用。

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