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本公开的一些实施例可以改善量测设备中的目标标记不对称性的测量以改善结合光刻过程执行的测量中的准确度。例如，一种量测系统可以包括被配置成接收从衬底上的目标衍射的多个衍射阶的投影系统。所述量测系统还可以包括检测器阵列和被配置成在所述投影系统与所...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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