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本发明提供了一种反应腔室及薄膜沉积设备。所述反应腔室包括基座，用于承载晶圆；盖板，置于所述反应腔室的顶部，与所述基座相对设置；加热装置，与所述盖板可移动地连接，所述加热装置用于向所述反应腔室内部辐射热量；所述加热装置包括安装部件和固定于所述...
该专利属于上海积塔半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海积塔半导体有限公司授权不得商用。

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