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本发明公开了一种变高的、多层的、线性凹陷的轴锥孔结构。该结构是以斯涅尔定律、衍射元件设计原理以及光的折射定律为基础，对不同结构层的高度进行计算，实现各层高度由内向外逐渐降低的形态特征。平面波垂直入射，经过结构完成光束整形，形成外环局域能量占...
该专利属于南开大学所有，仅供学习研究参考，未经过南开大学授权不得商用。

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