下载一种碳化硅晶圆抛光用的抛光液及其制备方法与抛光方法的技术资料

文档序号:41513590

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种碳化硅晶圆抛光用的抛光液及其制备方法与抛光方法,所述抛光液包括如下组分:氧化剂、分散剂、第一磨料、第二磨料、pH调节剂和溶剂;所述第一磨料为青蒿素晶体;所述第二磨料包括二氧化铈、二氧化钛或二氧化硅中的任意一种或至少两种的组合...
该专利属于北京青禾晶元半导体科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京青禾晶元半导体科技有限责任公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。