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本发明公开了一种多喷嘴递进式硅片清洗装置及其清洗方法，其清洗装置包括：递进式多喷嘴部件、垫块、定位部件、固定部件和转台部件，转台部件的顶部中央设置固定部件，转台部件的顶部以固定部件为中心向外延伸依次设置垫块和定位部件，转台部件的上方设置高度...
该专利属于无锡海浥半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡海浥半导体科技有限公司授权不得商用。

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